半導體高溫烤箱
用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，箱內空氣封閉自循環，經耐高溫高效空氣過濾器（100級）反復過濾，使烘箱工作室內處于無塵狀態

半導體高溫烤箱

應用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，箱內空氣封閉自循環，經耐高溫高效空氣過濾器（100級）反復過濾，使烘箱工作室內處于無塵狀態。無塵烤箱工作室為不銹鋼結構。適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業。

半導體高溫烤箱

技術參考

1. 溫度范圍：RT～450℃；
2. 內箱尺寸：800×600×600mm（W×H×D）、700*500*500（可選）；
3. 箱體數:2個,上下布置，可定做；
4. 內膽材質：SUS321鏡面不銹鋼，無縫焊接保護被加工件不受任何污染；
5. 升溫時間（空載）：1.5h；
6. 降溫時間（空載）：300℃-50℃降溫時間1.5-3.5小時(采用水冷翅片散熱器)；
7. 加熱器：特制無塵加熱器；
8. 溫度和氧含量記錄:進口無紙記錄儀；
9.標準配件高效99.97%（0.3 μ ）微粒空氣過濾器、微差壓力劑、計時器、可調隔層板、單段式溫度控制器

輸出控制:
1. 配置PLC,可實現多事件輸出控制氣氛、水等開關和報警；
2. 控制：上下爐腔可單獨控溫、通氣、報警保護；
3. 控溫儀表：日本島電FP93溫控儀；
4. 控溫段數：4×10段；控溫點數：2點；
5. 超溫報警點數：2點；檢測點數：2點；
6. 報警保護：超溫、斷偶等聲光報警保護；超溫保護：獨立感溫式超溫保護器；電機保護：電機過電流、水冷保護； 表
 面溫升：＜30℃；